石英坩堝是拉制單晶硅的消耗性器皿，每生產(chǎn)一爐單晶硅就用掉一只石英坩堝。因為單晶硅是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的原材料，所以對石英坩堝的要求十分苛刻。目前單晶硅的發(fā)展主要向大直徑、高純度以及雜質(zhì)分布高均勻性的方向發(fā)展。 而石英坩堝是直拉單晶硅生長過程中的重要材料，它的純度和加工質(zhì)量會直接影 響單晶硅的產(chǎn)量和質(zhì)量，隨著直拉單晶硅投料量和晶體生長直徑的不斷增大，對 石英坩堝的純度和質(zhì)量要求越來越高，主要有以下幾方面要求：

１）材質(zhì)必須是 高純度半導(dǎo)體級，且純度要高，有害化學(xué)元素小于２０Ｘ １０｛；

２）耐高溫性強， 在高溫過程中保持高電阻率及防止軟化；

３）坩堝的尺寸大，國外已普遍使用２２ 英寸及３６英寸的石英坩堝；

４）氣泡要少，氣泡在生產(chǎn)中不長大；

５）規(guī)格精度 高，耐溫性能好，節(jié)約能源。因此，隨著對大直徑單晶硅質(zhì)量要求的不斷提高， 對半導(dǎo)體材料用石英制品及相關(guān)材料提出了更高的要求。

單晶硅坩堝蓋板